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    1. Hu, XH; Chen, GL; Cinca, I
      The 1100 degrees C isothermal section of the Ti-Co-Si ternary system

      JOURNAL OF PHASE EQUILIBRIA
    2. Hu, X; Chen, G; Ion, C; Ni, K
      The 1100 degrees C isothermal section of the Ti-Ni-Si ternary system

      JOURNAL OF PHASE EQUILIBRIA
    3. Shimozaki, T; Okino, T; Yamane, M; Lee, CG
      The role of iron in Ti on the growth of Ti silicides in bulk Ti/Si diffusion couples

      MATERIALS TRANSACTIONS JIM
    4. SHIMOZAKI T; OKINO T; YAMANE M; WAKAMATSU Y; ONISHI M
      EFFECT OF IMPURITIES ON GROWTH OF TI SILICIDES IN BULK TI SI DIFFUSION COUPLE/

      Materials transactions, JIM
    5. SEIFERT HJ; LUKAS HL; PETZOW G
      THERMODYNAMIC OPTIMIZATION OF THE TI-SI SYSTEM

      Zeitschrift fur Metallkunde
    6. SHIMOZAKI T; CHIKUMARU K; WAKAMATSU Y; ONISHI M
      EFFECT OF PURITY OF TI ON GROWTH-BEHAVIOR OF TI SILICIDE FORMED IN BULK TI SI DIFFUSION COUPLE/

      Nippon Kinzoku Gakkaishi


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 13/08/20 alle ore 20:09:53