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    1. Juppo, M; Alen, P; Ritala, M; Leskela, M
      Trimethylaluminum as a reducing agent in the atomic layer deposition of Ti(Al)N thin films

      CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
    2. Hatta, H; Aoki, T; Hitomi, T; Fukuda, H; Shiota, I
      Suppression of through-the-thickness cracks in SiC coating on C/C composites

      COMPOSITE INTERFACES
    3. Aoki, T; Hatta, H; Hitomi, T; Fukuda, H; Shiota, I
      SiC/C multi-layered coating contributing to the antioxidation of C/C composites and the suppression of through-thickness cracks in the layer

      CARBON
    4. Juppo, M; Ritala, M; Leskela, M
      Use of 1,1-dimethylhydrazine in the atomic layer deposition of transition metal nitride thin films

      JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
    5. Chen, JX; Li, CH; Fu, Z; Tu, XY; Sundberg, M; Pompe, R
      Low temperature oxidation behavior of a MoSi2-based material

      MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A-STRUCTURAL MATERIALS PROPERTIES MICROSTRUCTURE AND PROCESSING


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 15/08/20 alle ore 01:51:00