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    1. TAKECHI K; TAKAGI T; KANEKO S
      THE MECHANISM AT WORK IN 40 MHZ DISCHARGE SIH4 NH3/N-2 PLASMA CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION OF SINX FILMS AT VERY RATES/

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
    2. TAKECHI K; TAKAGI T; KANEKO S
      PERFORMANCE OF A-SI-H THIN-FILM TRANSISTORS FABRICATED BY VERY HIGH-FREQUENCY DISCHARGE SILANE PLASMA CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 14/08/20 alle ore 11:03:09