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    1. Chung, CW; You, KI; Seo, SH; Kim, SS; Chang, HY
      The electron bounce resonance in a low-pressure solenoidal inductive discharge

      PHYSICS OF PLASMAS
    2. Seo, SH; Chung, CW; Hong, JI; Chang, HY
      Nonlocal electron kinetics in a planar inductive helium discharge

      PHYSICAL REVIEW E
    3. Dinescu, G; Mitu, B; Aldea, E; Dinescu, M
      A double-chamber capacitively coupled RF discharge for plasma assisting deposition techniques

      VACUUM
    4. Seo, SH; Kim, SS; Hong, JI; Chang, CS; Chang, HY
      Evolution of the electron energy distribution function in a planar inductive argon discharge

      APPLIED PHYSICS LETTERS
    5. Hahn, YB; Hays, DC; Cho, H; Jung, KB; Abernathy, CR; Donovan, SM; Pearton, SJ; Han, J; Shul, RJ
      Comparison of ICl- and IBr-based plasma chemistries for inductively coupled plasma etching of GaN, InN and AlN

      MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
    6. Buiu, O; Kennedy, GP; Gartner, M; Taylor, S
      Structural analysis of silicon dioxide and silicon oxynitride films produced using an oxygen plasma

      IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 26/01/21 alle ore 06:53:38