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    1. Sekiguchi, A; Kobayashi, A; Koide, T; Okada, O; Hosokawa, N
      Reaction of copper oxide and beta-diketone for in situ cleaning of metal copper in a copper chemical vapor deposition reactor

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
    2. Robertson, EA; Beck, SE; George, MA; Bohling, DA; Waskiewicz, JL
      Simultaneous oxide and metal removal from silicon surfaces

      ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 09/08/20 alle ore 01:06:49