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    1. TAGO K; KAZUMI H; KOBAYASHI K
      A PLASMA KINETICS MODEL - ANALYSIS OF WALL LOSS REACTIONS IN DRY-ETCHING OF SILICON DIOXIDE

      Journal of alloys and compounds
    2. KAZUMI H; HAMASAKI R; TAGO K
      RADICAL AND ION COMPOSITIONS OF BCL3 CL-2 PLASMA AND THEIR RELATION TO ALUMINUM ETCH CHARACTERISTICS/

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
    3. KAZUMI H; TAGO K
      ANALYSIS OF PLASMA CHEMICAL-REACTIONS IN DRY-ETCHING OF SILICON DIOXIDE

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
    4. SAIGUSA M; YAMAMOTO T; PETTY CC; YOSHIOKA K; KAZUMI H; KAWASHIMA H; FUJII T; KIMURA H; MIURA Y; TAMAI H
      ANALYSIS OF THE COUPLING PROPERTIES OF THE TOROIDAL ANTENNA-ARRAY IN JFT-2M BY A CODE CONSIDERING THE SOLID SEPTA

      Nuclear fusion


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 21/01/21 alle ore 07:14:07