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    1. Niskanen, A; Hatanpaa, T; Ritala, M; Leskela, M
      Thermogravimetric study of volatile precursors for chemical thin film deposition. Estimation of vapor pressures and source temperatures

      JOURNAL OF THERMAL ANALYSIS AND CALORIMETRY
    2. Hatanpaa, T; Kansikas, J; Mutikainen, I; Leskela, M
      Ancillary ligand effect on the properties of "Mg(thd)(2)" and crystal structures of [Mg(thd)(2)(ethylene-diamine)](2), [Mg(thd)(2)(tmeda)], and [Mg(thd)(2)(trien)] (vol 40, pg 788, 2001)

      INORGANIC CHEMISTRY
    3. Hatanpaa, T; Kansikas, J; Mutikainen, I; Leskela, M
      Ancillary ligand effect on the properties of "Mg(thd)(2)" and crystal structures of [Mg(thd)(2)(ethylenediamine)](2), [Mg(thd)(2)(tmeda)], and [Mg(thd)(2)(trien)]

      INORGANIC CHEMISTRY
    4. Vehkamaki, M; Hatanpaa, T; Hanninen, T; Ritala, M; Leskela, M
      Growth of SrTiO3 and BaTiO3 thin films by atomic layer deposition

      ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS
    5. Hatanpaa, T; Ihanus, J; Kansikas, J; Mutikainen, I; Ritala, M; Leskela, M
      Properties of [Mg-2(thd)(4)] as a precursor for atomic layer deposition ofMgO thin films and crystal structures of [Mg-2(thd)(4)] and [Mg(thd)(2)(EtOH)(2)]

      CHEMISTRY OF MATERIALS


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 26/10/20 alle ore 06:43:19