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Titolo:
Reflection electron microscopy observation of formation process of palladium silicide islands on silicon (111) surface
Autore:
Takeguchi, M; Tanaka, M; Yasuda, H; Furuya, K;
Indirizzi:
Natl Res Inst Met, Tsukuba, Ibaraki 3050003, Japan Natl Res Inst Met Tsukuba Ibaraki Japan 3050003 a, Ibaraki 3050003, Japan
Titolo Testata:
SCRIPTA MATERIALIA
fascicolo: 8-9, volume: 44, anno: 2001,
pagine: 2363 - 2367
SICI:
1359-6462(20010518)44:8-9<2363:REMOOF>2.0.ZU;2-M
Fonte:
ISI
Lingua:
ENG
Soggetto:
SHAPE TRANSITION; UHV; MORPHOLOGY; SI(111); PD;
Keywords:
transmission electron microscopy (TEM); silicon (Si); palladium (Pd); silicide; reflection electron microscopy (REM);
Tipo documento:
Article
Natura:
Periodico
Settore Disciplinare:
Physical, Chemical & Earth Sciences
Engineering, Computing & Technology
Citazioni:
11
Recensione:
Indirizzi per estratti:
Indirizzo: Takeguchi, M Natl Res Inst Met, 3-13 Sakura, Tsukuba, Ibaraki 3050003, Japan Natl Res Inst Met 3-13 Sakura Tsukuba Ibaraki Japan 3050003 n
Citazione:
M. Takeguchi et al., "Reflection electron microscopy observation of formation process of palladium silicide islands on silicon (111) surface", SCR MATER, 44(8-9), 2001, pp. 2363-2367


ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 04/04/20 alle ore 06:38:13