Catalogo Articoli (Spogli Riviste)

OPAC HELP

Titolo:
Beneath the MEEF
Autore:
Kim, BG; Choi, SW; Han, WS; Sohn, JM;
Indirizzi:
Samsung Elect, Semicond R&D Ctr, Yongin City 449711, Kyunggi Do, South Korea Samsung Elect Yongin City Kyunggi Do South Korea 449711 i Do, South Korea
Titolo Testata:
SOLID STATE TECHNOLOGY
fascicolo: 8, volume: 43, anno: 2000,
pagine: 107 -
SICI:
0038-111X(200008)43:8<107:BTM>2.0.ZU;2-X
Fonte:
ISI
Lingua:
ENG
Tipo documento:
Article
Natura:
Periodico
Settore Disciplinare:
Engineering, Computing & Technology
--discip_EC--
Citazioni:
2
Recensione:
Indirizzi per estratti:
Indirizzo: Kim, BG Samsung Elect, Semicond R&D Ctr, San 24, Yongin City 449711, Kyunggi Do, South Korea Samsung Elect San 24 Yongin City Kyunggi Do South Korea 449711 rea
Citazione:
B.G. Kim et al., "Beneath the MEEF", SOL ST TECH, 43(8), 2000, pp. 107

Abstract

The effects responsible far enhancing small photomask CD errors are the same as those which narrow the exposure latitude. Innovations that increase the process window also reduce the mask error enhancement factor, thus doubly improving yield.

ASDD Area Sistemi Dipartimentali e Documentali, Università di Bologna, Catalogo delle riviste ed altri periodici
Documento generato il 27/11/20 alle ore 16:06:50